ASML新一代High NA EUV落户韩国，SK海力士率先导入量产存储芯片
韩国第二大存储芯片制造商SK海力士宣布，已在利川市的M16工厂正式引进并安装了全球首台量产型高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV），并举行了入厂仪式。这一设备由荷兰ASML研发制造，被视为半导体工艺发展的重要里程碑。
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三星2nm GAA工艺大跃进：高NA EUV设备加持，挑战台积电霸主地位
哎呀，三星在半导体领域又放大招了！最近有报道称，三星电子正计划引进更多ASML的高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻机，这些设备单价高达4亿美元以上，简直是“烧钱神器”。这波操作直指三星的2nm GAA（全环绕栅极）工艺，目的是加速Exynos 2
SK海力士安装首款商用High NA EUV光刻机
在该系统安装的活动中，SK海力士研发部长Cha Seon Yong、制造技术部长Lee Byoungki和ASML日本SK海力士客户团队负责人Kim Byeong-Chan共同庆祝了生产下一代DRAM的设备的推出。